금뒤에 IPK 라고 적혀있으면  이때 I는 이온도금 이라는  약자를 뜻합니다.

뒤에 K 는  금의 함량과 순도를 뜻하는  KARAK 의 약자이구요.

이온도금(lon PLATING) 이란

이온도금은 1963년에 미국의 원자력위원회의 매톡스(D.M.Mattox) 박사에 의해서 개발된 코팅방법이다.   그 당시의 주된 목적은 인공위성의 고체윤활제로서 진공중에서 마찰계수가 적은 은(Ag)을 부착, 강도를 높이는 코팅이었지만 피막과 모재(母材) 와의 밀착성이 좋은 점과 화합물피막이 용이하게 만들어지는 점 등 많은 장점이 있기 때문에 용도가 다양해졌으며, 이온 프레이팅 방식도 여러 가지가 개발되었다.  

이러한 이온도금을 간단히 말한다면 물질에 물리적, 화학적인 충격을 주어, 이온화시켜서, 도금코자 하는 소재 위에 증착시키는 것이다.   이 때 사용되는 도금물질(증착재:蒸着材) 종류는 티타늄(Ti), 은(Ag), 산화규소(SiO₂), 알루미늄(AI), 크롬(Cr), 구리(Cu), 산화알루미늄(AI₂O₃)등 여러 가지가 있다.